フッ化表面層を有する金属材料もしくは金属皮膜ならびにフッ化方法

開放特許情報番号
L2005004968
開放特許情報登録日
2005/4/22
最新更新日
2005/4/22

基本情報

出願番号 特願平09-248231
出願日 1997/9/12
出願人 昭和電工株式会社
公開番号 特開平11-092912
公開日 1999/4/6
登録番号 特許第3094000号
特許権者 昭和電工株式会社
発明の名称 フッ化表面層を有する金属材料もしくは金属皮膜ならびにフッ化方法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造、表面処理
適用製品 フッ化表面を有する金属材料、半導体製造装置、ニッケルフッ化物、アルミニウムフッ化物、銀フッ化物
目的 厚膜で安定かつ耐久性に優れるフッ化層及びその形成方法の提供。
効果 厚膜フッ化層が得られるは、耐酸、耐アルカリ性にも優れたので半導体関連機器を中心にその装置部材として極めて有効である。
技術概要
 
この技術では、金属材料もしくは金属皮膜の表面を強制酸化後に、膜厚が1μm以上のフッ化層を形成してフッ化表面層を有する金属材料もしくは金属皮膜を得る。フッ化処理する金属は、フッ素と反応性があり安定したフッ化物を形成するあらゆる金属であるが、特にニッケル、銅、銀、アルミニウムはフッ化により著しく耐食性が高まるために好ましい金属である。鉄は、形成されるフッ化鉄は空気中の水分によって、分解、解離し金属表面にフッ酸を生じせしめ、水分を含む使用環境(大気開放)においてはむしろ、腐食を促進させることにもなり実用上問題が発生する危険性があるので、除外する。金属とはこれらニッケルなどを含む合金であってもよい。また、フッ化処理する金属皮膜とは、これらのニッケル、銅、銀、アルミニウムあるいはこれらの一種以上を含む合金の電解めっき、無電解めっき、物理蒸着(PVD)等によって成膜された皮膜が挙げられる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 昭和電工株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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