露光方法及び露光装置

開放特許情報番号
L2005004663
開放特許情報登録日
2005/4/8
最新更新日
2015/9/16

基本情報

出願番号 特願2004-360665
出願日 2004/12/14
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2006-173215
公開日 2006/6/29
登録番号 特許第4686753号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 露光方法及び露光装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 露光装置
目的 ワークに対して適切な照射を行うことが可能な露光方法及び露光装置を提供する。
効果 空間光変調手段は任意の被転写パターンを自由に形成できるので、被転写パターン毎にマスク等を用意する必要がなくなる結果、リソグラフィ工程等に要する費用を安価なものとすることができる。また、ワークの同一部分に同一の被転写パターンを継続的又は間欠的に照射するので、その継続時間や繰返し照射回数を適宜設定することで、被転写パターン毎に適切な露光量とすることが可能である。さらに、この方法によれば、パターンの解像度を犠牲にせずに露光面積が拡大できる。
技術概要
図1に示す露光装置1で実施される露光方法では、制御装置4により空間光変調手段3に被転写パターンを形成し、照明手段2によって空間光変調手段3の被転写パターンを照らす。すると、空間光変調手段3によって形成される被転写パターンはコリメートレンズ8、テレセントリックレンズ9、10、偏向反射手段7及び結像レンズ12を介してワークに照射される。この場合、偏向反射手段7の動作に応じて空間光変調手段3の動作を制御し、ワークの所定部分に同一の被転写パターンを継続的又は間欠的に照射するようにする。そして、ワークの所定部分に十分な時間被転写パターンが照射されたなら、制御装置4によりテーブル13を動作させ、次の被転写パターンをワークの別の部分に照射する。そして、必要ならば、その被転写パターンを同様な方法によって継続的又は間欠的に照射する。これらの方法を繰り返して、ワークの必要箇所に転写パターンを形成する。図2は露光装置の制御系を示すブロック図、図3は露光装置の作用及び露光方法を説明するための図、図4はフォーカス合わせ装置のフォーカス合わせ方法を説明するための図である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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