窒化ホウ素分散複合セラミックス及びその製造方法

開放特許情報番号
L2005004661
開放特許情報登録日
2005/4/8
最新更新日
2006/7/28

基本情報

出願番号 特願2004-360620
出願日 2004/12/13
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2006-169015
公開日 2006/6/29
発明の名称 窒化ホウ素分散複合セラミックス及びその製造方法
技術分野 無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 耐熱衝撃部材、耐熱部材、金属溶湯用部材、耐腐蝕部材等に有用な複合セラミックスに適用する。
目的 窒化ケイ素、炭化ケイ素及び窒化ホウ素を構成相とする複合セラミックスを提供する。
効果 化学反応により合成した、微細な組織と高密度、高強度を有する複合セラミックスが可能になる。
技術概要
反応焼結窒化ケイ素を母相として、この母相中に炭化ケイ素と窒化ホウ素粒子が均一に分散してなる複合セラミックスにする。このセラミックスは、化学反応式:3xSi+B↓4C+2(1+x)N↓2=xSi↓3N↓4+SiC+4BNに基づいて、反応焼結させて得られるものであって、例えば、(A)平均粒径1〜80μmのケイ素粉末、平均粒径1μm程度のマイクロオーダーの炭化ホウ素、及び雰囲気中の窒素の化学反応に必要とされる各成分を混合し、成形した後、(B)1〜8気圧の窒素ガス雰囲気において、1300〜1750℃の温度で焼結が行われる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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