流体浄化装置

開放特許情報番号
L2005004646
開放特許情報登録日
2005/4/8
最新更新日
2015/9/16

基本情報

出願番号 特願2004-351755
出願日 2004/12/3
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2006-159029
公開日 2006/6/22
登録番号 特許第4915979号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 流体浄化装置
技術分野 化学・薬品、機械・加工
機能 洗浄・除去、機械・部品の製造
適用製品 流体浄化装置
目的 光触媒に対し汚染物質を含む流体の滞留経路を長くし、光触媒作用で高効率に汚染物質を含む流体の浄化を行う浄化装置を提供する。
効果 光触媒に対しフィルタを分割小分けする、フィルタ間に仕切板を設けるなどして、汚染物質を含む流体の滞留経路、又は滞留時間を長くする。この結果、流体はフィルタを長く通過する構成になり、光源体の光照射に長くさらされることとなった。これにより、光触媒作用で高効率に汚染物質を含む流体の浄化を行うことが出来るようになった。
技術概要
図1は流体浄化装置の全体構成の断面図である。図において、装置は基本的に容器1と光源体2を主構成にし、容器1の容器本体3端部に光源体2を挟みブロック7、8が固定されている。容器1は円筒状のもので、中央部には光透過可能な内管4を介しており、この内管4に光源体2が設けられている。内管4は、石英ガラスで、光源体2は、例えばUVランプである。この容器1には、光源体2の周囲に容器本体3と内管4との間にフィルタ5が収納される構造になっている。このフィルタ5はドーナツ状の形状をしていて分割された構成である。従って、容器1には複数のフィルタ5が積層されて収納される。このフィルタ5は、酸化チタン皮膜が形成されたスポンジ状多孔質構造体で3次元微細セル構造を有した光触媒である。この積層されたフィルタ5間に流体の後述する流路を構成する通路部材6を設けた構成になっている。図2は、図1の通路部材部分を模式的に示す拡大部分断面図である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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