エチレン製造用触媒およびこの触媒を用いるエチレンの製造方法

開放特許情報番号
L2005004556
開放特許情報登録日
2005/4/8
最新更新日
2006/6/30

基本情報

出願番号 特願2004-307376
出願日 2004/10/21
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2006-116439
公開日 2006/5/11
発明の名称 エチレン製造用触媒およびこの触媒を用いるエチレンの製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 エチレン製造用触媒およびこの触媒を用いるエチレンの製造システム
目的 エタノールを脱水反応させることによりエチレンを製造する方法において、より低温で反応が進行すると共に高収率・高選択率でエチレンを製造することができる触媒およびこのものを用いた工業的に有利なエチレンの製造方法を提供する。
効果 エタノールの脱水反応によるエチレンの製造方法に用いられる触媒は、150〜250℃の範囲の低温下であっても、エタノールの脱水反応を促進し、高収率かつ高選択率でエチレンを与える。従って、このものを触媒とすればエタノールからエチレンを工業的に有利に製造することができる。
技術概要
 
エチレン製造方法に用いられる触媒は、水素型モルデナイト、水素型ZSM5ゼオライト及び水素型ベータゼオライトから選ばれた少なくとも1種を必須成分とする。また、触媒の成型を容易にするため、あるいは、触媒の耐久性を向上させるため、あるいは、その他の目的のために、本発明の触媒の性能を損なわない範囲で、他の物質を含んでいても良い。このような物質としては、たとえば、酸化アルミニウム、酸化珪素、シリカ・アルミナ、酸化ジルコニウム、活性炭などが挙げられる。また、触媒の粒子径や形状は、反応方式、反応器の形状によって任意に選択できる。すなわち、この方法は、固定床、流動床等いずれの反応方式においても有効である。この触媒を用い、エタノールの脱水反応によりエチレンを製造する場合、その反応条件としては、反応温度は150〜250℃の範囲、好ましくは、160〜230℃、より好ましくは、170〜200℃、反応圧力は、加圧、常圧、減圧のいずれでも良く、好ましくは0.2〜1.5気圧(絶対圧力)である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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