ガス吸着下における陽電子消滅法を用いた細孔サイズの評価方法とその評価装置

開放特許情報番号
L2004008648
開放特許情報登録日
2004/11/12
最新更新日
2015/9/15

基本情報

出願番号 特願2003-034417
出願日 2003/2/12
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2004-245655
公開日 2004/9/2
登録番号 特許第3914985号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ガス吸着下における陽電子消滅法を用いた細孔サイズの評価方法とその評価装置
技術分野 電気・電子
機能 検査・検出
適用製品 陽電子消滅法、メソポーラスシリカ、ゼオライト、センサー、触媒、低誘電体膜
目的 測定試料の材質、あるいは、それに吸着されたガスの種類によらない測定値が得られるナノメートル領域の細孔サイズの評価方法とその評価装置の提供。
効果 細孔の大きさについて、試料の材質に依存せず、標準試料も必要としない、非常に信頼性の高い見積もりが可能となる。さらに、半導体集積回路に用いられる低誘電率薄膜のような極微量の試料に対しても測定可能である。
技術概要
この技術では、測定試料に吸着している水や二酸化炭素、窒素、炭化水素などのガスを脱離させた後、窒素やアルゴンなどの不活性ガスもしくはトルエン、ヘプタンなどの非極性ガスを吸着させる。不活性ガスもしくは非極性ガスを吸着させた状態で、よく知られた陽電子消滅法を用いて細孔のサイズの評価を行なう。ガスを吸着させた測定試料の表面は、陽電子からは、下地の影響が殆ど反映されない様に見えるので、測定試料が変わっても、材料に対する陽電子寿命の依存性を殆ど考慮する必要がなくなる。従って、測定試料に依らない測定を容易に行なうことができる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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