紫外線照射による光感応性添加物を用いて作製した高結晶性・表面平滑なセラミック薄膜の製造方法

開放特許情報番号
L2004008175
開放特許情報登録日
2004/9/17
最新更新日
2015/9/14

基本情報

出願番号 特願2003-011725
出願日 2003/1/21
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2004-224603
公開日 2004/8/12
登録番号 特許第4238313号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 紫外線照射による光感応性添加物を用いて作製した高結晶性・表面平滑なセラミック薄膜の製造方法
技術分野 無機材料、化学・薬品、その他
機能 材料・素材の製造、その他
適用製品 高結晶性・表面平滑なセラミック薄膜、機能性集積材料
目的 紫外線照射による光感応性添加物を用いて作製した新規な高結晶性・表面平滑セラミック薄膜の製造方法を提供する。
効果 結晶化前の薄膜に、放射波長領域300nmから450nmの光源を用いて紫外線照射することにより、結晶化後のセラミック薄膜の結晶性及び表面微構造を効率よく制御することができる。
技術概要
本発明の高結晶性セラミック薄膜の製造方法は、金属アルコキシドに光感応性有機物を添加し、加水分解をして調製した前駆体溶液を、Si(100)基板上にディップコーティング、又はスピンコーティングして作製した結晶化前のセラミック薄膜に、波長領域が300nmから450nm付近の光を放出する光源を用いて、より低エネルギーの紫外線を照射した後、450℃以下で仮焼、及び加熱処理することにより高結晶性セラミック薄膜を作製することを特徴とする。また紫外線照射によって作製されたSi(100)基板上の結晶化前の薄膜を、450℃以下で仮焼、急速昇温加熱処理し、この一連の行程を膜厚が数nmから500nmになるまで繰り返すことを特徴とする。図には各種ジルコニア前駆体溶液を用い、室温下、超高圧水銀灯もしくは低圧水銀灯から紫外線照射して450℃で焼成した場合のジルコニア薄膜のX線回折図を示す。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 より低エネルギーで、かつより低温で結晶性の向上した、均質で表面平滑性の良いセラミック薄膜を効率よく製造できる。
改善効果2 セラミック薄膜作製のプロセスの効率化が図られるため、機能性集積材料の開発に大きく貢献できる、等の格別な効果が得られる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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