新規なN−スルフェニルピロール化合物およびその製造方法

開放特許情報番号
L2004007880
開放特許情報登録日
2004/8/27
最新更新日
2015/9/14

基本情報

出願番号 特願2002-369104
出願日 2002/12/20
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2004-196730
公開日 2004/7/15
登録番号 特許第4214220号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 新規なN−スルフェニルピロール化合物およびその製造方法
技術分野 化学・薬品、有機材料
機能 材料・素材の製造、環境・リサイクル対策、加熱・冷却
適用製品 殺菌剤。ゴムの加硫化剤。発芽前処理用除草剤。
目的 新規なN−スルフェニルピロール化合物を提供すること。
効果 強塩基や塩素、臭素を用いることなく安全にかつ容易にN−スルフェニルピロール化合物を製造することができる。
技術概要
本発明のN−スルフェニルピロール化合物は、図1の式で表される。式中、R↑1は炭素数1〜6のアルキル基を示し、R↑2〜R↑5は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシル基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素数6〜12の芳香族基、ハロゲン原子、ニトロ基、またはシアノ基のいずれかを示す。本発明の製造方法は、図2に示す式で表されるN−スルフェニルピロール化合物を製造する方法である。式中、R↑2〜R↑6は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシル基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素数6〜12の芳香族基、ハロゲン原子、ニトロ基、またはシアノ基のいずれかを示す。図3の式で表されるスルフェンアミド化合物に対し、図4の式で表される2,5−ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物を反応させる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 スルフェンアミド化合物と2,5−ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物の反応により、収率よく製造することができる。
改善効果2 強塩基や塩素、臭素を用いることなく安全にかつ容易にN−スルフェニルピロール化合物を製造することができる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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