可飽和吸収体内蔵光学装置

開放特許情報番号
L2004007471
開放特許情報登録日
2004/8/13
最新更新日
2006/3/10

基本情報

出願番号 特願2004-137829
出願日 2004/5/6
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-321483
公開日 2005/11/17
発明の名称 可飽和吸収体内蔵光学装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 カーボンナノチューブ分散ポリマー、可飽和吸収体内蔵光学装置、超短時間パルスレーザー
目的 光ファイバの光の通路上に設けた微細なスリットの間に均一な光学的品質を有する可飽和吸収領域 を形成した光損失の少ない、可飽和吸収特性を利用する光学装置の提供。
効果 光ファイバの光の通路中を伝搬する光パルスの波形整形、雑音低減、モード同期など可飽和吸収機 能を利用する光学装置において、光ファイバの光通路の途中の微小領域に可飽和吸収領域を極めて簡易に 形成することができる。
技術概要
この技術では、光ファイバの光通路に可飽和吸収領域を有する光学装置において、可飽和吸収 領域を、同軸上に保持した2つの光ファイバの両端面間で形成するスリットにカーボンナノチューブ分散 ポリマー溶液を充填、乾燥することにより形成する。スリットは、保持部材上に保持した光ファイバを切 断することによって形成してもよい。さらに、保持部材が基板上に光ファイバのフェルール又は被覆部を 保持するための溝及び/又はスリット形成のための溝を形成したものとしてもよい。また、スリットが、 毛細管に2本の光ファイバを挿入し、その両端面間で形成したものとしてもよい。さらに、スリットが1 〜50μmとすることが好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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