超臨界二酸化炭素中でのマイクロエマルジョンを利用した金属ナノ微粒子の製造方法

開放特許情報番号
L2004007403
開放特許情報登録日
2004/8/13
最新更新日
2015/9/14

基本情報

出願番号 特願2004-107591
出願日 2004/3/31
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-290481
公開日 2005/10/20
登録番号 特許第4096061号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 超臨界二酸化炭素中でのマイクロエマルジョンを利用した金属ナノ微粒子の製造方法
技術分野 機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 逆ミクロエマルジョン、金属イオン、還元
目的 scCO↓2の環境下で、高度に単分散した金属又は半導体のナノ粒子を成長できる、商業的に利 用可能な、水/亜臨界ないし超臨界二酸化炭素(以下、W/Cという。)逆ミクロエマルジョンを形成す ること、また、従来、高価な活性剤又は活性助剤の使用が不可欠であった、scCO↓2の環境下での逆 ミクロエマルジョンの形成を、これまで一般に使用されていた、安価な、活性剤を使用することにより、 実現する方法の提供。
効果 穏和な、scCO↓2の環境下で、W/C逆ミクロエマルジョンを形成し、高度に単分散した金属 又は半導体のナノ粒子を製造することが可能である。また、高価な活性剤又は活性助剤の使用が不可欠で あった、scCO↓2の環境下での逆ミクロエマルジョンの形成を、これまで一般に使用されていた、安 価な、活性剤を使用することにより、商業的に利用可能な、金属ナノ粒子の製造方法の提供が可能である 。
技術概要
この技術は、亜臨界ないし超臨界の二酸化炭素を反応媒体として、水/二酸化炭素からなる逆 ミクロエマルジョンを形成し、ミセル中に含まれる金属イオンを、還元剤により還元して金属ナノ粒子を 製造する方法において、逆ミクロエマルジョンを形成するにあたり、ビス(2−エチルヘキシル)スルホ コハク酸ナトリウム(AOT)及び2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロ−1−ペンタノー ル(F−ペンタノール)を活性剤として使用することを特徴とする金属ナノ粒子の製造方法である。この 金属ナノ粒子を製造する方法は、W/C逆ミクロエマルジョン中で、一般に使用されているAOTと廉価 なF−ペンタノールを使用することにより、金属ナノ粒子、例えば、平均粒径が7.1nm(標準偏差: 1.8nm)の面心立方銀単結晶を、効率良く製造することが可能となる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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