高圧流体発生制御方法及びその装置

開放特許情報番号
L2004007264
開放特許情報登録日
2004/8/13
最新更新日
2006/2/24

基本情報

出願番号 特願2004-063234
出願日 2004/3/5
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-246325
公開日 2005/9/15
発明の名称 高圧流体発生制御方法及びその装置
技術分野 情報・通信
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 次世代の化学合成システム、高圧流体を使用した化学合成システム、圧縮装置
目的 亜臨界ないし超臨界流体を利用した化学プロセス等において、処理容器内の温度と圧力が所定の値になるように高精度に、しかも瞬時に制御することを可能とする新規な高圧流体発生制御方法及びその装置の提供。
効果 高精度、かつ瞬時に、処理容器内を所定の温度及び圧力状態に制御された流体で満たすことができる。
技術概要
この技術におけるマイクロ波照射装置は電源・制御装置と発信器とからなり、キャビティー内の圧力容器にマイクロ波を照射できるようになっている。制御装置に所定の温度、圧力の値を入力して、その値に近づくように発振器からマイクロ波を圧力容器に照射する。マイクロ波照射により発生した温度及び圧力は調圧弁と予熱予冷器を介して反応器へと接続される。反応器の温度、圧力は高圧流体発生制御装置全体を制御する装置によりコントロールされる。反応器で使用された流体は、蒸発器で不純物を取り除いた後に気体として取り出され凝縮器へと戻される。凝縮された流体は再び高圧器に戻され、マイクロ波照射装置により所定の温度、圧力に制御される。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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