光干渉計における外乱の測定装置および高精度光干渉計測装置

開放特許情報番号
L2004006338
開放特許情報登録日
2004/7/2
最新更新日
2015/9/11

基本情報

出願番号 特願2002-316985
出願日 2002/10/31
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2004-150965
公開日 2004/5/27
登録番号 特許第3621994号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 光干渉計における外乱の測定装置および高精度光干渉計測装置
技術分野 情報・通信、電気・電子、機械・加工
機能 検査・検出、機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 光干渉計。
目的 外乱による測定誤差を見積もることが可能な高精度光干渉計測装置を提供すること。
効果 外乱が測定値に与える誤差量の周波数特性を評価することが可能となる。
技術概要
光干渉計における外乱の測定装置は、図に示すように、物体光と参照光との間に鋸波状に変化する位相差を与え、その結果干渉光強度が正弦波的に変化することを利用して、得られた正弦波の位相と最初に与えた鋸波状信号との位相差から物体光と参照光の位相差を測定する光干渉計において、物体光と参照光の位相差を異なるサンプリング周波数においてそれぞれ複数回サンプリングするとともに、得られたサンプリング値から外乱が測定値に与える誤差量の周波数特性を評価する手段を設けることを特徴とする。物体光と参照光とからなる干渉光を複数の光束に分け、それぞれの光束が測定物の異なる部分に対応するような位置に複数の開口を設け、該開口を通過した干渉光同士の位相差を測定し、測定値に与える誤差量の空間的分布を評価する手段を設けることを特徴とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 外乱が測定値に与える誤差量の周波数特性を評価することが可能となる。
改善効果2 外乱が測定値に与える誤差量の空間的分布を評価することが可能となる。
改善効果3 許容値以下の測定精度を達成するために必要な、鋸波状位相差の周波数を決定することが可能となる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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