表面微細構造体とその製造方法

開放特許情報番号
L2004006320
開放特許情報登録日
2004/7/2
最新更新日
2015/9/11

基本情報

出願番号 特願2002-303133
出願日 2002/10/17
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2004-137105
公開日 2004/5/13
登録番号 特許第4161046号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 表面微細構造体とその製造方法
技術分野 化学・薬品、機械・加工
機能 材料・素材の製造、表面処理、機械・部品の製造
適用製品 反射防止部材、反射防止部材用成形型
目的 簡潔な手法により、基板上に微細なパターンを形成しうる新しい技術を提供する。
効果 ガラス状炭素材料基板をドライエッチング処理するという簡潔な手法により、基板上に微細なパターンを形成することができる。
技術概要
 
本発明は、ガラス状炭素基材表面に平均径150〜400nm、平均長300〜2000nmの柱状体が150〜400nmの間隔で形成されている表面微細構造体、およびガラス状炭素基材をプラズマ法によるドライエッチング処理する表面微細構造体の製造方法を提供するものである。具体例を次に示す。ガラス状炭素材料基板に対し、ICPプラズマを用いて(反応ガス:酸素(流量150sccm)、反応装置内圧力:1.14Pa、基板温度:25℃、処理時間:10分間、RFパワー:1.0W/cm↑2、バイアスRFパワー:0.4W/cm↑2)ドライエッチング処理したところ、ガラス状炭素基材表面に、平均径約300nm、平均長約900nmの柱状体が約150〜400nmの間隔で形成されていた。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 ガラス状炭素材料基板をドライエッチング処理するという簡潔な手法により、基板上に微細なパターンを形成することができる。
改善効果2 特異な微細構造パターンを利用する転写用型として極めて有用である。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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