ダイヤモンドライクカーボン膜の製膜装置、製膜方法及び表面加工品

開放特許情報番号
L2004005776
開放特許情報登録日
2004/6/11
最新更新日
2014/5/30

基本情報

出願番号 特願2001-340175
出願日 2001/11/6
出願人 ふくはうちテクノロジー株式会社
公開番号 特開2003-147526
公開日 2003/5/21
登録番号 特許第4023775号
特許権者 ストローブ株式会社
発明の名称 ダイヤモンドライクカーボン膜の製膜装置
技術分野 電気・電子、無機材料、その他
機能 材料・素材の製造、表面処理、その他
適用製品 ダイヤモンドライクカーボン膜製膜装置、表面加工品、電子部品用保護膜・ガラス製品・プラスチック製品・医療材料・医療機器・生体材料・装飾品
目的 真空チャンバを高真空雰囲気にすることなく、被処理物表面にその色や輝きを損なわない無色透明なダイヤモンドライクカーボン膜を形成する装置および製膜方法を提供する。
効果 高平滑性・抗菌性(防汚性)・生体適合性などの表面形状に起因する特性はそのままに、無色透明なダイヤモンドライクカーボン膜を形成することができる。
技術概要
本発明の製膜装置は、互いに対向する電極4、5間を真空雰囲気に維持し、電極4、5間に被処理物2を位置させて原料ガスを導入すると共に高周波を印加してプラズマを発生させることにより、被処理物2の表面にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する製膜装置であり、原料ガスを導入する前に被処理物2の表面を水素ガス雰囲気中でプラズマ処理するために電極4、5間に水素ガスを導入する水素ガス供給手段10と、ダイヤモンドライクカーボン膜の膜厚が400Åを超えないように予め設定された原料ガス濃度及び電力量に応じて、その設定濃度で原料ガスを供給する原料ガス供給手段10と、その設定電力量の高周波を前記電極4、5間に印加する電源装置7を備えると共に、真空雰囲気の真空度を0.8〜100Pa、好ましくは1.0〜50Paに維持する圧力調整手段9を備えたことを特徴とする。図は製膜装置を示す説明図である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 高平滑性・抗菌性(防汚性)・生体適合性などの表面形状に起因する特性はそのままに、無色透明なダイヤモンドライクカーボン膜を形成することができる。
改善効果2 カメオやパールその他の装飾品等にコーティングしてもその色や輝きが損なわれることがなく、また、レンズなどの光学部品にコーティングしても光透過性を損なうことがなく、強固な防汚用保護膜を形成することができる。
改善効果3 高真空にしなくても比較的低真空で製膜することができるので、強度の比較的低い真空チャンバ内でダイヤモンドライクカーボン膜を製膜することができ、設備を簡素化できるという効果がある。
出展実績 2003年関東特許流通フェア出展

登録者情報

登録者名称 ストローブ株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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