光誘起表面レリーフに基づく情報記録方法

開放特許情報番号
L2004005494
開放特許情報登録日
2004/6/4
最新更新日
2015/9/11

基本情報

出願番号 特願2003-175822
出願日 2003/6/20
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2004-127484
公開日 2004/4/22
登録番号 特許第4139892号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 光誘起表面レリーフに基づく情報記録方法
技術分野 情報・通信、有機材料、その他
機能 材料・素材の製造、その他
適用製品 高密度光情報記録装置
目的 アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に光照射して、表面に凹凸パターンを形成させて情報記録を行う際に、情報密度を増大させることを目的とする。
効果 従来と同じ、媒体を用いているにも係わらず、従来の情報記録の桁高い記録密度を達成することが出来る。
技術概要
本発明の情報記録再生方法は、アゾベンゼン部位を有するポリマー薄膜に対し、光を照射することにより形成される異方性を有するパターンを利用する情報記録再生方法であり、凹部と凸部が交互に一直線上に配置された表面レリーフパターンを形成し、直線の回転角を制御することにより、回転角度に基づく複数の情報を記録再生することを特徴とする。パターンは、k個の凹部及び(k+1)個の凸部を有し、(k+1)個の凸部は、k個の凹部を挟んで、交互に一直線上に設けられている。図のように対称軸がθだけ回転した表面レリーフパターンに対して、ピットと同程度の狭い線幅を持つ読み出し光を照射し、その透過光又は反射光をモニターする。読み出し光の回転に伴って透過光又は反射光強度は、増減するが、その変化分が実際の検出感度以上であるので、表面レリーフパターンの対称軸の位置θを検出することが可能となる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 従来と同じ、媒体を用いているにも係わらず、従来の情報記録の桁高い記録密度を達成することが出来る。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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