ポリメチルメタクリレート−金属クラスター複合体の製造方法

開放特許情報番号
L2004005481
開放特許情報登録日
2004/6/4
最新更新日
2015/9/11

基本情報

出願番号 特願2002-264630
出願日 2002/9/10
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2004-099777
公開日 2004/4/2
登録番号 特許第4000368号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ポリメチルメタクリレート−金属クラスター複合体の製造方法
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 ナノリソグラフィ、フォトニック結晶、高密度記録媒体、触媒等の機能を発現させる材料として有用なポリメチルメタクリレート−金属クラスター複合体に適用する。
目的 ポリメチルメタクリレートと金属化合物を特定条件下で接触させて、その複合体を製造する方法を提供する。
効果 従来困難とされていた複合体をフィルム状、シート状等の基体、その他特定の形状の成形品として、簡単かつ効率よく製造することが可能になる。
技術概要
紫外線照射部を有するポリメチルメタクリレート基板に、重金属化合物の蒸気を接触させて、紫外線照射部に重金属ナノ粒子を形成させることにより、ポリメチルメタクリレート−金属クラスター複合体を製造する。紫外線照射部には、所定のパターンがマスキングにより形成されていることが好ましい。また、重金属化合物としては、処理条件下で、蒸気となる昇華性、揮発性の化合物または錯体が用いられ、特にビス(アセチルアセトナート)パラジウム(U)(昇華160℃/0.1mmHg)、ビス(アセチルアセトナート)銅(U)(昇華65〜110℃/0.02mmHg)等が好適に用いられる。ポリメチルメタクリレートとしては、処理温度においてガラス状態にあるもの、好ましくは50〜200℃のガラス転移温度を有するものが用いられ、粒状、基板状(フィルム、シート)、成形部品等何れの形状でも適用できるが、パターン材料として用いる場合は基板状が好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT