共役系分子を有するブロックコポリマー及びそれを用いた薄膜の製造方法

開放特許情報番号
L2004005150
開放特許情報登録日
2004/5/14
最新更新日
2015/9/11

基本情報

出願番号 特願2002-248225
出願日 2002/8/28
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2004-083769
公開日 2004/3/18
登録番号 特許第3680134号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 共役系分子を有するブロックコポリマー及びそれを用いた薄膜の製造方法
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 機能性高分子
目的 分子が自己組織化して相分離及び散逸による特定の分子構造を形成し、光材料及び導電性材料などに用いられる高機能な新規ブロックコポリマーを提供する。
効果 膜の最表面にマイクロメートルオーダーで規則的な共役系分子集合体が構築された高分子薄膜を容易に作製できる。
技術概要
 
本発明のブロックコポリマーの一般式は、図1に示すものであり、式中Yは図2に示す群である。ブロックコポリマーを溶媒に溶解し、コポリマー溶液を基板上に塗布した後、溶媒を揮発させることによる、規則的な共役系分子集合体表面を有する高分子薄膜の製造方法である。さらに、その薄膜の製造方法においては、溶媒として、二硫化炭素、ジクロロメタン及びクロロホルムから選ばれる溶液を用い、高湿度気流下において溶媒を揮発させることが好ましい。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 膜の最表面にマイクロメートルオーダーで規則的な共役系分子集合体が構築された高分子薄膜を容易に作製できる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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