二酸化炭素からのジアルキルホルムアミドの製造方法

開放特許情報番号
L2004005105
開放特許情報登録日
2004/5/14
最新更新日
2015/9/11

基本情報

出願番号 特願2002-226773
出願日 2002/8/5
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2004-067550
公開日 2004/3/4
登録番号 特許第3757275号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 二酸化炭素からのジアルキルホルムアミドの製造方法
技術分野 化学・薬品、その他
機能 材料・素材の製造、その他
適用製品 ジアルキルホルムアミド
目的 金属錯体を用いる二酸化炭素の光還元反応において、一酸化炭素以外の有用な化学物質を製造する方法を提供する。
効果 金属錯体を用いる二酸化炭素の光還元反応において、ジアルキルアミンを反応系に添加することでジアルキルホルムアミドを得ることができた。
技術概要
本発明のジアルキルホルムアミドの製造方法は、二酸化炭素に対し、該二酸化炭素を一酸化炭素に光還元する性能を有する金属錯体とジアルキルアミンの共存下において、光照射することを特徴とする。金属錯体の金属は、その錯体が電子供与剤の存在下で二酸化炭素を一酸化炭素に光還元し得るものであればよく、周期律表第8族金属の中から選ばれレニウム、ルテニウム、オスミウム、ニッケル、コバルト等が挙げられる。またその金属成分に対する配位子としては、該金属成分に配位し、錯体を形成する配位子が用いられ、含窒素複素環化合物や含酸素複素環化合物、含イオウ複素環化合物等があげられる。その反応温度は30〜150℃、好ましくは80〜100℃である。二酸化炭素の圧力は2〜6MPa付近が最適であり、あまり高圧にして二酸化炭素が液体もしくは超臨界状態になってしまうとかえって生成物の収量は抑制される。図はレニウム錯体を用いた一酸化炭素およびジエチルホルムアミド生成量と反応時間との関係を示すグラフである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 金属錯体を用いる二酸化炭素の光還元反応において、ジアルキルアミンを反応系に添加することでジアルキルホルムアミドを得ることができた。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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