低温プラズマを用いる排ガスの浄化方法及びその浄化装置

開放特許情報番号
L2004005051
開放特許情報登録日
2004/5/14
最新更新日
2015/9/11

基本情報

出願番号 特願2004-040534
出願日 2004/2/17
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-230627
公開日 2005/9/2
登録番号 特許第4411432号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 低温プラズマを用いる排ガスの浄化方法及びその浄化装置
技術分野 情報・通信
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 排ガス浄化装置
目的 排ガス中に低濃度で含まれる揮発性の有害な有機物質を浄化処理するに当たり、窒素酸化物を副性させることなく、常温において、低エネルギーかつ短時間で効率的に分解処理できる排ガスの浄化方法の提供。
効果 酸素ガス雰囲気で反応させるため触媒表面に吸着された有機性ガス成分の分解が促進されて、二酸化炭素まで完全な酸化反応が達成できるため副生成物の生成を低減できる。
技術概要
この技術では、バルブに流入した排ガスをプラズマ反応器に導入して吸着させ、酸素供給装置から導入される酸素の存在下に印加電圧によるプラズマを発生させて有機物質を分解させ、その後、流出する排ガスを、有害物質を含まない場合にはそのまま系外に放出させるが、COなどの有害物質が含まれている場合にはプラズマ反応器に導入して再度分解除去させた後、系外に放出させる。次に、プラズマ反応器内部の充填した触媒を担持した吸着剤が吸着能或いは触媒能が一定以下に低下した場合には、バルブを切換えて排ガスを低温プラズマ反応器と並列に配置したプラズマ反応器に導入して吸着させ、その間、反応器内部の吸着剤の再生処理を行う。この操作を交互に繰り返すことにより排ガスの分解処理操作を連続的に行うことができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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