複合高圧処理装置及びそれに用いる高圧バルブ

開放特許情報番号
L2004005020
開放特許情報登録日
2004/5/14
最新更新日
2015/9/11

基本情報

出願番号 特願2004-026100
出願日 2004/2/2
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-214405
公開日 2005/8/11
登録番号 特許第4214228号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 複合高圧処理装置及びそれに用いる高圧バルブ
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造、加圧・減圧
適用製品 シリコンウエファ、半導体基板、複合高圧処理装置、高圧バルブ
目的 1MPa以上の高圧を維持した状態で基材を二つの高圧容器間を移動することができ、かつ、高圧バルブを閉めることによって二つの高圧容器の圧力を独立に制御することができる複合高圧処理装置及びそれに用いる高圧バルブの提供。
効果 弁体の移動量を大きくすることなくシール部を弁座体に強く密着せしめることができるため、形状がコンパクトでバルブに満たされる余剰の容量がほとんどなく、かつ、リーク量を非常に小さくすることができる高圧バルブを得ることができる。
技術概要
この技術では、高圧バルブを介して着脱可能に接続した複数の高圧容器内において基材に1MPa以上の高圧条件で高圧処理を行う高圧処理装置において、高圧バルブを閉めた状態の場合、それぞれの高圧容器内で独立に該基材に対して異なる種類の高圧処理が可能であって、かつ高圧バルブを開けた状態の場合、高圧バブルによって接続する二つの高圧容器がそれぞれ1MPa以上の圧力に維持する。また、高圧バルブの弁体内部を基材が通り抜け可能な構成とし、二つの高圧容器間を基材が移動可能であるものとする。また、複合高圧処理装置において、高圧容器を複数の高圧バルブを介して接続する。ことを特徴とする複合高圧処理装置を提供する。また、複合高圧処理装置において、複数の高圧バルブ間の空間に基材ホルダーを設けることにより空間を高圧処理室とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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