| 出願番号 |
特願2004-008674 |
| 出願日 |
2004/1/16 |
| 出願人 |
独立行政法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2004-306134 |
| 公開日 |
2004/11/4 |
| 登録番号 |
特許第4231924号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
透明材料の微細加工装置 |
| 技術分野 |
機械・加工、化学・薬品 |
| 機能 |
材料・素材の製造、表面処理 |
| 適用製品 |
微細加工装置、光学素子、回折格子、偏光板、反射板、反射防止板、プリズムアレイ、ホログラム光学素子、フォトニック結晶素子、光通信素子、光導波路基板、液晶配向基板 |
| 目的 |
流動性物質の入ったセルで覆われた透明基板の裏面を再現性よくレーザー光の集光位置に保持することのできる透明材料の微細加工装置を提供する。 |
| 効果 |
透明材料を正確な位置に保持することができ、高精度に様々な形状を表面加工することができる。 |
技術概要
 |
本発明の透明材料の微細加工装置は図示の様に透明材料１１の裏面にレーザー波長に対して高い吸収率を有する流動性物質１２を接触させ、正面からレーザー光Ｌを照射して透明材料１１の裏面に微細加工を施す透明材料の微細加工装置において、透明材料の裏面位置を直接規制する基準プレート１３を設けて透明基板１１の裏面を再現性よくレーザー光の集光位置に保持することで、透明材料裏面への微細加工を可能とするものである。流動性物質としては、使用するレーザー波長に高い吸収率を持つ物質であればよく、例えばピレンのアセトン溶液、ベンジルのアセトン溶液、ピレンのテトラヒドロフラン溶液、ローダミン６Ｇのエタノール溶液、フタロシアニンのエタノール溶液などの芳香族環を含む有機化合物、トルエン、ベンゼン、４塩化炭素等の液体状化合物、ピラニン水溶液、ナフタレン誘導体水溶液、有機化合物、有機色素、無機顔料、あるいは炭素などの微粒子などを分散して作った溶液等を使用することができる。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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