透明材料の微細加工装置及びこれを用いた光学素子作製法

開放特許情報番号
L2004004634
開放特許情報登録日
2004/4/16
最新更新日
2015/9/11

基本情報

出願番号 特願2004-008674
出願日 2004/1/16
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2004-306134
公開日 2004/11/4
登録番号 特許第4231924号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 透明材料の微細加工装置
技術分野 機械・加工、化学・薬品
機能 材料・素材の製造、表面処理
適用製品 微細加工装置、光学素子、回折格子、偏光板、反射板、反射防止板、プリズムアレイ、ホログラム光学素子、フォトニック結晶素子、光通信素子、光導波路基板、液晶配向基板
目的 流動性物質の入ったセルで覆われた透明基板の裏面を再現性よくレーザー光の集光位置に保持することのできる透明材料の微細加工装置を提供する。
効果 透明材料を正確な位置に保持することができ、高精度に様々な形状を表面加工することができる。
技術概要
本発明の透明材料の微細加工装置は図示の様に透明材料11の裏面にレーザー波長に対して高い吸収率を有する流動性物質12を接触させ、正面からレーザー光Lを照射して透明材料11の裏面に微細加工を施す透明材料の微細加工装置において、透明材料の裏面位置を直接規制する基準プレート13を設けて透明基板11の裏面を再現性よくレーザー光の集光位置に保持することで、透明材料裏面への微細加工を可能とするものである。流動性物質としては、使用するレーザー波長に高い吸収率を持つ物質であればよく、例えばピレンのアセトン溶液、ベンジルのアセトン溶液、ピレンのテトラヒドロフラン溶液、ローダミン6Gのエタノール溶液、フタロシアニンのエタノール溶液などの芳香族環を含む有機化合物、トルエン、ベンゼン、4塩化炭素等の液体状化合物、ピラニン水溶液、ナフタレン誘導体水溶液、有機化合物、有機色素、無機顔料、あるいは炭素などの微粒子などを分散して作った溶液等を使用することができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 加工すべき透明材料を正確な位置に保持することができ、再現性よく透明材料の裏面に微細加工を施すことができる。
改善効果2 流動性物質は、透明材料とは独立して保持されるので、加工すべき透明材料が流動性物質の保持状態に影響を受けることがない。
改善効果3 レーザー光の焦点位置が的確に制御でき周辺部分の損傷を未然に防止することができる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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