誘導散乱容器

開放特許情報番号
L2004003685
開放特許情報登録日
2004/3/12
最新更新日
2015/9/9

基本情報

出願番号 特願2003-389050
出願日 2003/11/19
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-148604
公開日 2005/6/9
登録番号 特許第4000375号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 誘導散乱容器
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 誘導散乱媒質、3層構造、励起レーザー光、ストークス光、励起光エネルギー、ストークス光エネルギー
目的 媒質中の微粒子による光学部品の焼き付き等の損傷を防止することができる誘導散乱容器の提供。
効果 3層構造の各層に、その各層に充填されている媒質と同一の媒質を水平に流すようにしたので、誘導散乱媒質中で生じた微粒子を、水平方向に流す媒質で容器の外に押し流し除去することができる。したがって、光学部品の焼き付き等の損傷を防止して光学部品の品質を良好に保つことができ、長時間の運転が可能となる。
技術概要
この技術は、容器の中心軸を鉛直方向にし、容器中央に誘導散乱媒質を充填し、その誘導散乱媒質の上部に誘導散乱媒質より密度の低い媒質を、また下部に誘導散乱媒質より密度の高い媒質をそれぞれ充填して3層構造とした誘導散乱容器において、3層の各層に、その各層に充填されている媒質と同一の媒質を水平に流すようにする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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