同軸型真空加熱装置

開放特許情報番号
L2004002903
開放特許情報登録日
2004/3/5
最新更新日
2015/10/30

基本情報

出願番号 特願平10-258970
出願日 1998/9/11
出願人 科学技術振興事業団
公開番号 特開2000-087237
公開日 2000/3/28
登録番号 特許第3028129号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 同軸型真空加熱装置
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 薄膜形成装置、基板加熱装置
目的 搬送系に配設する電気配線及び水冷配管等がねじれないようにして、基板又はウエハーの加熱温度を維持したまま搬送することのできる同軸型真空加熱装置の提供。
効果 基板温度を保持したまま回転軸を中心として連続的に回転して搬送できるとともに、連続プロセスを並列的に処理することができる。
技術概要
この技術では、同軸型真空加熱装置は、圧力制御可能な共通室を備えると共に、共通室の真空を保持したまま回転及び上下移動するとともに共通室外部の電気配線及び水道配管と連結した円筒状の公転移動シャフトを備え、公転移動シャフトの回転軸と同一軸で固定した搬送プレートを備える。また、搬送プレートの回転軸を中心とする位置に一以上の基板加熱部を配設し、基板加熱部に対応して共通室と隔壁の開口部を介して一以上の圧力制御可能なプロセス処理室を設ける。基板加熱部が水冷のために配設した水冷配管を有する加熱手段を有し、この加熱手段で加熱する基板を保持した基板ホルダーを有するものとする。またこの構成に加え、公転移動シャフトが上端を真空シールして電気配線と接続するスリップリングと、水道配管と連結した水冷シールユニットと、水冷シールユニットと水密的に連結して摺動する同軸水冷配管とを有するものとする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

登録者名称 国立研究開発法人科学技術振興機構

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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