基板加熱搬送プロセス処理装置

開放特許情報番号
L2004002902
開放特許情報登録日
2004/3/5
最新更新日
2015/10/2

基本情報

出願番号 特願平10-258968
出願日 1998/9/11
出願人 科学技術振興事業団
公開番号 特開2000-091232
公開日 2000/3/31
登録番号 特許第3192404号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 基板加熱搬送プロセス処理装置
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 薄膜形成装置、薄膜製造装置
目的 ウエハーを加熱したまま搬送することができるとともに、各プロセス処理室と組み合って形成した真空室を独立して圧力制御及び温度制御するための基板加熱搬送プロセス処理装置の提供。
効果 各プロセス処理室間を基板を加熱したまま搬送することができる。
技術概要
この技術では、圧力制御可能な共通室と、隔壁の複数の開口部を介して共通室と連結した複数の圧力制御可能なプロセス処理室とを具備し、共通室内に、基板を保持し加熱する基板加熱部とこの基板加熱部を複数配設した搬送プレートとを備え、搬送プレートで複数の基板加熱部を搬送して基板加熱部を隔壁の複数の開口部に当接することにより、複数のプロセス処理室を真空シールドし、基板加熱部とプロセス処理室とで独立して圧力制御可能なプロセス処理装置において、各基板加熱部が、加熱手段と、この加熱手段で加熱する基板を保持する基板ホルダーと、この加熱手段と基板ホルダーとを一体として自転させる基板回転機構とを有するものとする。そして、加熱手段にて基板を加熱しながら搬送プレートを回転させて、基板ホルダーを複数のプロセス処理室に搬送し、複数のプロセス処理室内で基板を加熱及び自転させる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

登録者名称 国立研究開発法人科学技術振興機構

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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