二光子吸収材料

開放特許情報番号
L2004000094
開放特許情報登録日
2004/1/9
最新更新日
2015/9/9

基本情報

出願番号 特願2003-369795
出願日 2003/10/30
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-132763
公開日 2005/5/26
登録番号 特許第4328856号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 二光子吸収材料
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 光制限材料、光造型用光硬化樹脂の硬化材料、三次元光メモリ材料等に有用な化合物に適用する。
目的 二光子吸収材料として使用し得る特定の化学構造を有するエチレン系化合物を提供する。
効果 巨大な二光子吸収断面積を有し、低濃度で高い二光子吸収特性を示す新規な化合物が得られる。
技術概要
式(1)(R↓1〜R↓8はH、炭素数1〜12アルキル等;R↓9、R↓1↓0はピリジル、ピリジニウム塩;nは1〜4)で表されるエチレン系化合物であって、例えば1,4−ビス(2,5−ジメトキシ−4−[2−[4−(N−メチル)ピリジン−1−イウミル]エテニル]フェニル)ブタジエントリフレート等が挙げられる。この化合物は、例えば、1−ブロモ−2,5−ジメトキシ−4−クロロメチルベンゼンを出発原料として数段の反応を経て合成される。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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