石膏ボードの処理方法

開放特許情報番号
L2004000053
開放特許情報登録日
2004/1/9
最新更新日
2015/9/9

基本情報

出願番号 特願2003-352201
出願日 2003/10/10
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-111439
公開日 2005/4/28
登録番号 特許第4117378号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 石膏ボードの処理方法
技術分野 化学・薬品
機能 環境・リサイクル対策
適用製品 石膏ボード、クリーンガス化、建築内装材、バイオマス
目的 二酸化炭素吸物質共存下で、特に石膏ボードを穏和な条件で水蒸気及び酸素と反応せしめて、石膏ボードの石膏部分を化学的に変化させずに紙部分のみを主として水素と二酸化炭素にガス化して、生成する二酸化炭素を二酸化炭素吸収物質に吸収して、クリーンガス化することによって石膏ボードを処理する方法の提供。
効果 適量の二酸化炭素吸収物質共存下、石膏ボードを水蒸気及び酸素でガス化を行うと、30気圧未満という非常に緩やかな反応条件下で効率よく水素と二酸化炭素にガス化を行うことができ、適量の二酸化炭素吸収物質を共存させると二酸化炭素をほとんど含まない非常にクリーンなエネルギーである水素に変換することが可能となる。
技術概要
この技術では、石膏ボードを二酸化炭素吸収物質の共存下で水蒸気及び酸素と反応して、その紙成分を水素と二酸化炭素にガス化して、二酸化炭素を二酸化炭素吸収物質に吸収せしめて石膏ボードを処理するに際して、石膏の紙成分と水蒸気及び酸素との反応を生ぜしめるための反応場において、圧力30気圧未満、温度400℃〜700℃の条件下で反応せしめる。そして、反応場に、生成する二酸化炭素をすべて吸収可能な量の二酸化炭素吸収物質を存在せしめるものとする。そしてまた、反応場において石膏ボード中の炭素のモル数[C]に対する二酸化炭素吸収物質のモル数〔二酸化炭素吸収物質〕の比[二酸化炭素吸収物質]/[C]を、1〜5の範囲とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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