高密着性酸化物皮膜及びその製造方法

開放特許情報番号
L2004000042
開放特許情報登録日
2004/1/9
最新更新日
2015/9/9

基本情報

出願番号 特願2003-350216
出願日 2003/10/9
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-112678
公開日 2005/4/28
登録番号 特許第4178239号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 高密着性酸化物皮膜及びその製造方法
技術分野 無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 簡便な操作で得られ、高温耐腐食性非酸化物セラミックス材料、高温耐腐食性非酸化物セラミックス構造部材、ガスタービン部材等として広い分野で利用される。
目的 非酸化物セラミックス基材上に緻密で基材との密着性が良い酸化物皮膜を安価で、且つ簡単な方法で基材上に成膜する方法の提供。
効果 皮膜内部が緻密で表面がウィスカーライクの結晶相で覆われ、基材との密着強度に優れ、皮膜の剥離は起こらず、その工業的利用価値は極めて大きい。
技術概要
(1)窒化ケイ素、炭化ケイ素、或いはそれらの複合材を基材として、それらを大気中で、例えば、800〜1600℃の温度範囲で加熱処理してシリカスケールを形成させ、(2)非酸化物セラミックスを、つめ粉の酸化物粉末に埋め、高圧下、不活性雰囲気下で反応焼結させ、(3)工程(1)〜(2)により、基材に酸化物層からなる耐腐食性酸化物皮膜を形成することにより、非酸化物セラミックス基材上に形成させる耐腐食性酸化物皮膜を製造する。尚、Al↓2O↓3、Ln↓2O↓3、SiO↓2、TiO↓2、ZrO↓2、HfO↓2の酸化物またはそれらの複酸化物を、つめ粉の酸化物粉末として用い、また、反応焼結法を利用して、高密着性のAl↓2O↓3、Ln↓2O↓3、SiO↓2、TiO↓2、ZrO↓2、HfO↓2の酸化物またはそれらの複酸化物の皮膜を形成し、更に、基材表面に1〜10ミクロンのシリカスケールを析出させる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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