光線処理による有機皮膜形成方法

開放特許情報番号
L2004000041
開放特許情報登録日
2004/1/9
最新更新日
2015/9/9

基本情報

出願番号 特願2003-350147
出願日 2003/10/8
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-113224
公開日 2005/4/28
登録番号 特許第3968438号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 光線処理による有機皮膜形成方法
技術分野 金属材料
機能 表面処理
適用製品 金属基体に防食性を持たせる有機皮膜の形成に適用する。
目的 金属地金上の表面を特定の改質を行った後防食性向上を目的とする特定の有機皮膜を形成する方法を提供する。
効果 極めて簡単に有機皮膜の密着性及び防食性を著しく向上できる効果を奏する。
技術概要
(A)金属基体上の空気酸化膜、水酸化膜を、例えばカソード還元、機械研磨等により除去して金属地金を露出させる、その後(B)露出した金属地金に酸化膜/水酸化膜が自然に形成される時、波長150〜400nmの紫外線を、0.5〜50mW/cm↑2の強度で照射することにより表面改質を行い、次いで(C)金属基体を、ヒドロキサム基を有する防食性有機分子を含む有機溶媒に浸漬して、自己組織化皮膜を形成し、続いて(D)有機皮膜の密着性及び防食性を向上せしめる、有機皮膜の形成方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

その他の提供特許
登録番号5  
その他 6件以上 【有】
関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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