3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンの製造法

開放特許情報番号
L2004000032
開放特許情報登録日
2004/1/9
最新更新日
2015/9/9

基本情報

出願番号 特願2003-348662
出願日 2003/10/7
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-112774
公開日 2005/4/28
登録番号 特許第4359679号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンの製造法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造、環境・リサイクル対策
適用製品 3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンの製造に適用する。
目的 二酸化炭素と特定の触媒の存在下でイソホロンを水素化して3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンを製造する方法を提供する。
効果 従来に比べて低温度で、触媒活性低下を防いで反応を行って、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンを選択的に製造できるので、有害な有機溶媒を使用しない環境調和型のプロセスが可能になる。
技術概要
 
二酸化炭素を用いて、活性炭担持パラジウム触媒、アルミナ担持パラジウム触媒の存在下において、イソホロンと水素とを反応させて3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンを製造する。二酸化炭素は、温度20〜140℃、圧力0.1〜50MPaの条件で用い、また、水素は、温度20〜140℃、圧力0.1〜30MPaの条件で用いるのが好ましく、特に、二酸化炭素は、超臨界条件下で用いるのが好適である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

その他の提供特許
登録番号5  
その他 6件以上 【有】
関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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