多孔質体形成材料及び多孔質体の製造方法

開放特許情報番号
L2003009892
開放特許情報登録日
2003/12/19
最新更新日
2015/9/9

基本情報

出願番号 特願2003-330453
出願日 2003/9/22
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-097366
公開日 2005/4/14
登録番号 特許第4041891号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 多孔質体形成材料及び多孔質体の製造方法
技術分野 有機材料、無機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 簡便な操作で得られ、透明な低密度材料、低誘電材料、フィルター等として広い分野で利用される。
目的 超臨界の二酸化炭素により直径が0.1ミクロン以下の空孔を形成するための材料及びこの材料を多孔質化するためのプロセスの提供。
効果 従来困難とされていた直径が100nm以下の微細空孔を有する高分子多孔質体を容易に得ることができ、可視光に透明であり、その工業的利用価値は極めて大きい。
技術概要
超臨界の二酸化炭素により100nm以下の空孔を形成するための多孔質体形成材料であって、超臨界二酸化炭素に溶解性を有する少なくとも1つの、含フッ素ポリマー鎖または炭化水素基を有するポリシロキサン鎖からなるブロック成分Aと、超臨界二酸化炭素に溶解性を有しない少なくとも1つのブロック成分Bを有するブロック共重合体からなることを特徴とする多孔質体形成材料。尚、この多孔質体形成材料に、超臨界の二酸化炭素を含浸させた後、ブロック成分Bを構成するポリマー鎖の二酸化炭素含侵した状態でのガラス転移温度よりも低温に冷却した後、材料に含浸されている二酸化炭素を気化させることにより、直径100nm以下の空孔を有する多孔質体を製造する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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