任意の表面特性及び表面形状を有する基体表面へのシリカ薄膜の製造方法及び複合構造体

開放特許情報番号
L2003008572
開放特許情報登録日
2003/11/21
最新更新日
2015/9/8

基本情報

出願番号 特願2002-076093
出願日 2002/3/19
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2003-277041
公開日 2003/10/2
登録番号 特許第4482679号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 任意の表面特性及び表面形状を有する基体表面へのシリカ薄膜の製造方法及び複合構造体
技術分野 無機材料
機能 表面処理
適用製品 絶縁膜、低反射コーティング膜、光導波形成膜、光伝導材料、アンダーコート膜、表面処理膜
目的 シリコンアルコキシド、アルコール、水及びアルカリの溶液に基体を浸漬し、シリコンアルコキシドを加水分解させて特定のコロイドを生ぜしめ、基体に付着させて脱水重縮合させて基体上にシリカ薄膜を形成させる。
効果 高透光性、高絶縁性、高密度、超撥水性等に優れた薄膜が、基体上に均一の膜厚で形成される。
技術概要
 
シリコンテトラメトキシドなどのシリコンアルコキシドと、水と、アンモニアなどのアルカリとを、溶媒としてメタノール、エタノールなどのアルコールに、好ましくはシリコンアルコキシドを0.05〜0.5mol/l、アルカリを0.5〜5.0mol/l、水を1〜10mol/lで混合し、これに基体として、例えば金属、ガラス、ポリエチレンなどのプラスチックス、シリコンゴムなどを浸漬する。基体の表面は親水性でも疎水性でもよく、平滑であっても凹凸があってもよい。アルコール溶媒中でシリコンアルコキシドを加水分解させ、液中に直径1から30nmの低密度ケイ酸コロイドを生ぜしめ、これを基体表面に付着させる。基体表面が親水性であれば、コロイドの一次粒子が付着して均一な膜となり、基体表面が疎水性であれば溶媒中に二次粒子としての単分散球状シリカ粒子が形成される混合比に調節する。膜形成の保持温度は氷点下であっても30℃以下であってもよく、反応時には反応液を動的な状態、例えば反応槽を震とうする、溶媒を循環させる、基体を振動させるなどの非静止状態に保って反応させてシリカ薄膜を形成させる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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