カルコゲニド元素の発生方法

開放特許情報番号
L2003008539
開放特許情報登録日
2003/11/21
最新更新日
2015/9/8

基本情報

出願番号 特願2002-056926
出願日 2002/3/4
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2003-252612
公開日 2003/9/10
登録番号 特許第4182198号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 カルコゲニド元素の発生方法
技術分野 化学・薬品、有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 カルコゲニド元素元素を含む燃料電池や化合物半導体等に用いられる薄膜や微粒子等の生産に適用する。
目的 特定の有機カルコゲニド化合物に特定の処理を行ってカルコゲニド元素を発生させる方法を提供する。
効果 揮発性が低くて毒性が小さく、安定な有機物を用いて低温でカルコゲニド元素を発生させることができるので、低エネルギーで安全に容易に作業できるため、工業的実施に極めて有用である。
技術概要
式(1)〜式(4)(Xはセレン、テルル;R↑1は鎖状または脂環状の炭化水素、縮合多環芳香族炭化水素等;R↑2、R↑3、R↑5、R↑6、R↑10は鎖状または脂環状の炭化水素、芳香族炭化水素;R↑4は飽和または不飽和の鎖状炭化水素等から選ばれる2価の炭化水素;R↑7、R↑8、R↑11は鎖状または脂環状の炭化水素;R↑9、R↑12はH、芳香族炭化水素;Ar↑1〜Ar↑3は芳香族炭化水素;a、bはそれぞれ0または1以上で、a=b=0でない;cは1以上)で表される化学構造式から選ばれる1種以上の有機カルコゲニド化合物に電磁波照射を行うことによりカルコゲニド元素を発生させる。例えば、ビス(4−メチルフェニル)ジカルコゲニド等の有機カルコゲニドとアルコール等の有機溶剤との溶液に、基板をディッピングさせて薄膜を形成した後、紫外可視光、またはYAGレーザー等を照射してカルコゲニド元素を発生させる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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