マルチターゲット同時レーザアブレーション堆積装置と同アブレーション堆積用ターゲットホルダー

開放特許情報番号
L2003008385
開放特許情報登録日
2003/10/31
最新更新日
2015/9/8

基本情報

出願番号 特願2003-304150
出願日 2003/8/28
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-068536
公開日 2005/3/17
登録番号 特許第4168139号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 マルチターゲット同時レーザアブレーション堆積装置と同アブレーション堆積用ターゲットホルダー
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 多元ターゲット同時レーザアブレーション堆積装置、その多元ターゲットホルダー
目的 単一フランジ多元ターゲットホルダーをチャンバーに取り付け、複数のレーザビームを使って、複数個のターゲットを同時又は交互にアブレーションさせる、マルチターゲット同時レーザアブレーション堆積装置を得る。
効果 多元素系の成膜や、成膜時に半導体化の為の添加材を同時にドープ出来、蒸発し欠損し易い元素成分を補充するなどの多元素成分の膜の正確な組成制御が可能となり、広い面積の成膜をする事が実現出来る。
技術概要
パルスレーザアブレーション堆積法のターゲットホルダーで、ターゲット2のセット台1と、均一にアブレーションさせる為のターゲット自転機能の手段と、アブレーションにより飛び出す微粒子系のプラズマ状プルームを、対向する基板の方向に向かせる為のターゲット自転軸の方向変更調整機能の手段と、これらをチャンバーに取り付けるフランジ9に取り付けて、ターゲットホルダーとする。これらの機構を同一フランジに複数個(例えば、2〜7個)取り付けるのが好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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