太陽電池及びその製造方法

開放特許情報番号
L2003008371
開放特許情報登録日
2003/10/31
最新更新日
2015/9/8

基本情報

出願番号 特願2003-302338
出願日 2003/8/27
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2005-072410
公開日 2005/3/17
登録番号 特許第4221499号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 太陽電池及びその製造方法
技術分野 電気・電子
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 昇華性色素をドープした高分子薄膜を用いた太陽電池
目的 高分子薄膜を用いた太陽電池において、高分子薄膜や色素の種類について大きな制限を受けることなく、エネルギー変換効率の高い太陽電池を製造できる方法の提供。
効果 高分子材料や色素の溶解性に関係なく、幅広い材料から適切な原料を選択して、色素がドープされた電荷輸送性高分子薄膜を形成することができる。
技術概要
この技術では、PPV薄膜を形成した材料と、ペリレンテトラカルボン酸ジイミド系色素であるN,N’−ビス(2,6−ジメチルフェニル)−3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸ジイミドの粉末1mgを、一方を封じたガラス管中に置き、ガラス管内の圧力が1×10↑(−4)Paとなるまで減圧した後、開口部をバーナーによって加熱して溶融封管し、PPV薄膜を形成したガラス基板と色素をガラス管中に密封する。このガラス管を管状炉中に入れ、炉の温度を250℃として1時間保っ。これにより色素が昇華して、PPV薄膜中へと侵入し、徐冷後、ガラス管を切断して、ガラス基板を取り出す。このガラス基板は、色素をドープしたPPV薄膜がITO透明電極表面に形成されたものである。次いで、色素をドープしたPPV薄膜の表面に、圧力1×10↑(−4)Paでアルミニウムを厚さ100nm(幅2mm)に蒸着して、有効面積0.04cm↑2の高分子薄膜太陽電池を得る。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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