ビスベンゾオキサゾール及びその製造方法

開放特許情報番号
L2003008117
開放特許情報登録日
2003/10/17
最新更新日
2015/9/7

基本情報

出願番号 特願2002-024896
出願日 2002/2/1
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2003-226691
公開日 2003/8/12
登録番号 特許第3975263号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ビスベンゾオキサゾール及びその製造方法
技術分野 化学・薬品、電気・電子、情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 情報記録材料、有機ELディスプレイ、蛍光増白剤、医療分野における蛍光プローブ等の構成材料として利用できる有機化合物に適用する。
目的 特定の化学構造を有してなるビスベンゾオキサゾールを提供する。
効果 溶解させる溶媒の種類により発する蛍光が変化する特性を有する化合物であって、簡便に収率よく製造できる。
技術概要
式T(XはCH、N)で表されるビスベンゾオキサゾール。この化合物は、式U(Rはアミノ基の保護基)で表される化合物を、安息香酸またはピリジンカルボン酸と反応させてアミド化合物とし、次いでO−ヒドロキシアミドを生成し、縮合反応を経てビスベンゾオキサゾール誘導体とした後、脱保護することにより製造される。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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