シリコンゴムコーティングしたシリカライト膜を用いた浸透気化法による発酵法高濃度エタノールの製造方法及びその装置

開放特許情報番号
L2003005396
開放特許情報登録日
2003/6/27
最新更新日
2015/9/3

基本情報

出願番号 特願2002-242833
出願日 2002/8/23
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2003-135090
公開日 2003/5/13
登録番号 特許第3981724号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 シリコンゴムコーティングしたシリカライト膜を用いた浸透気化法による発酵法高濃度エタノールの製造方法及びその装置
技術分野 有機材料、食品・バイオ
機能 材料・素材の製造、環境・リサイクル対策
適用製品 発酵エタノールを、蒸留工程を用いることなく、低コストで、濃縮することができ、化学原料、石油代替液体燃料等に利用される。
目的 エタノール発酵させて得られるエタノール溶液を、回収することなく、エタノール選択性分離膜中を透過させてエタノールの濃縮部分に導くことによる、高濃度エタノール溶液を製造する方法の提供。
効果 発酵系と一体化が可能で、しかも並行して分離・濃縮を安定に行うことができ、かつ、生産効率を向上させる。
技術概要
グルコース等の糖質を原料としてエタノール発酵によりエタノールを製造する発酵槽を、シリコンゴムコーティングしたシリカライト膜等のエタノール選択性分離膜を介して、一方を供給する糖質の発酵によるエタノールの製造部分とし、他の一方をエタノールの濃縮部分に分け、エタノール製造部分で得られるエタノール溶液を、エタノール選択性分離膜中を透過させてエタノールの濃縮部分に導くことにより、高濃度エタノールを得る。尚、エタノールの製造部分に比べて、エタノール濃縮部分の圧力が低い状態に保たれており、また、エタノール選択性分離膜を透過させるエタノールが気体状で取り出される、浸透気化法により高濃度エタノールを製造する。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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