光応答性高分子膜材料

開放特許情報番号
L2003005367
開放特許情報登録日
2003/6/27
最新更新日
2015/9/3

基本情報

出願番号 特願2001-326534
出願日 2001/10/24
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2003-128732
公開日 2003/5/8
登録番号 特許第3682527号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 光応答性高分子膜材料
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 光を照射することにより可逆的に構造が変化し、分子識別吸着能等の機能性に優れ、物質分離、センサー、医療・情報関連分野に利用される。
目的 光を外部から照射することにより機能を変える高強度な高分子膜材料の提供。
効果 力学的性能が高く、柔軟で高強度でありながら、光により可逆的に構造が変化し、分子識別吸着能、物質透過能、物質分離能等の機能性に優れている。
技術概要
式(T)(Rは不飽和炭化水素基;Aは酸素、窒素;Bは光応答性基)で示される、フェニルアゾアクリルアニリド等の、側鎖に光応答性基を有する不飽和カルボン酸誘導体を、エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ジビニルベンゼン、エチレンビスアクリルアミド及びジヒドロキシエチレンビスアクリルアミドから選ばれる少なくとも一種である架橋剤の存在下で重合させて得られる光応答性高分子膜材料。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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