プラズマ発生装置

開放特許情報番号
L2003005165
開放特許情報登録日
2003/6/13
最新更新日
2015/9/2

基本情報

出願番号 特願2001-286439
出願日 2001/9/20
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2003-100499
公開日 2003/4/4
登録番号 特許第3735664号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 プラズマ発生装置
技術分野 電気・電子、金属材料、その他
機能 表面処理、材料・素材の製造、その他
適用製品 プラズマ発生装置、プラズマプロセス装置
目的 半導体プロセッシングの分野において、低ガス圧で、均一、大面積のプラズマを長時間安定に発生さすことを可能とするマイクロ波プラズマ生成装置を提供する。
効果 従来難しかった低ガス圧で大口径のプラズマをマイクロ波放電で生成でき、かつ、反応性ガスの低エネルギーかつ収束イオンビームを大口径で生成させることができる。
技術概要
本発明のプラズマ発生装置は、放電容器内に一対又は複数対の内部アンテナを設け、この内部アンテナにマイクロ波を導入してプラズマを発生するバケット型イオン源を特徴とする。放電容器が真空の場合に、この内部アンテナ端付近でマイクロ波の最大電圧が発生できるよう、系のインピーダンスマッチングを取らず、分岐回路(アイソレーター)で反射波を入射波に変換し、アンテナ変換端から等価1/4波長の位置に終端を設けることによって系を共振させて、最大電圧が一対又は複数対の内部アンテナ端付近に出るようにすることで、低いマイクロ波電力でプラズマが点火でき、プラズマ発生と同時にマイクロ波電力が入射パワーの半分以上入るようにすることを特徴とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 従来難しかった低ガス圧で大口径のプラズマをマイクロ波放電で生成でき、かつ、反応性ガスの低エネルギーかつ収束イオンビームを大口径で生成させることができる。
改善効果2 従来型のイオンビームに比べ大口径のものができ、低コストで小型装置ができる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT