インプリントリソグラフィー用移動ステージ

開放特許情報番号
L2003005129
開放特許情報登録日
2003/6/13
最新更新日
2015/9/2

基本情報

出願番号 特願2001-267764
出願日 2001/9/4
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2003-077867
公開日 2003/3/14
登録番号 特許第3588633号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 インプリントリソグラフィー用移動ステージ
技術分野 機械・加工、その他
機能 機械・部品の製造、その他
適用製品 インプリントリソグラフィー用移動ステージ
目的 モールドを押しつけるレジスト側を相対的に所定位置に移動するとき、モールドを押しつけられる側に傾斜調整機構を設ける場合でも全ての位置でモールドをレジストに均等な圧力で加圧することができるようにしたインプリントリソグラフィー用移動ステージを提供する。
効果 試料側に傾斜調整機構を組み込みながら、試料移動を行う場合にも傾斜調整機能を有効に行うことができる。
技術概要
図に示すように平らな表面をもつ定盤8の略中心に支柱11を固定し、支柱11の上端面に傾斜調整機構としてのピボット12を固定する。定盤8の平面上を移動する移動機構10に移動ステージ6を固定し、移動ステージ6に弾性部材7を介して試料保持部材5を支持し、試料保持部材5によって表面にレジスト4を備えたシリコン基板3を保持する。ピボット12の直上にモールド2を上下動自在に配置し、モールド2の直下にモールドを転写するレジストの表面が位置するように移動機構10を移動する。所定位置でモールドをレジストに対して押圧すると、モールドとシリコン基板3が相対的に傾斜している場合でも両者が平行になるように弾性部材7が変形し、レジストに対して均一な押圧力を与えることができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 試料側に傾斜調整機構を組み込みながら、試料移動を行う場合にも傾斜調整機能を有効に行うことができる。
改善効果2 特にモールド側に傾斜調整機能を付加することが困難な場合において有効である。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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