電気銅めっき装置ならびに前記装置を使用した銅めっき方法

開放特許情報番号
L2003003370
開放特許情報登録日
2003/3/28
最新更新日
2018/2/20

基本情報

出願番号 特願平11-316292
出願日 1999/11/8
出願人 大阪府、有限会社 ウイング
公開番号 特開2001-131796
公開日 2001/5/15
登録番号 特許第3455705号
特許権者 有限会社 ウイング、地方独立行政法人大阪産業技術研究所
発明の名称 電気銅めっき装置ならびに前記装置を使用した銅めっき方法
技術分野 化学・薬品
機能 表面処理
適用製品 銅めっき槽、
目的 硫酸銅めっき液からの銅めっきにおいて、陽極スライムの生成を抑制することによって、ピットやざらつきのない良好なめっき皮膜を形成する方法を提供する。
効果 硫酸銅めっき浴において、銅陽極と不溶性陽極をカチオン交換膜を有する陽極室に隔離配置したので、スライム生成が抑制でき、良質のめっきが出来る。
技術概要
 
本発明は図示するような硫酸銅めっき浴槽に、カチオン交換膜5を付した陽極室4を配置し、この中に銅陽極41と不溶性陽極42を配置し、陽極室内において銅陽極から生成するCu↑+イオンが不溶性陽極から発生する酸素によって酸化されて不均化反応による銅或いは亜酸化銅微粒子の発生を抑制する方法を提供する。また、陽極室で生成するCu↑++イオンと水素イオンのみが選択的にカチオン交換膜を通してめっき液に補給され、陽極スライムがたとえ発生しても前記イオン交換膜で物理的に遮蔽されるので、めっき液を汚染することがなく、めっき皮膜のざらつき、ピット発生が回避されて良質の銅めっき皮膜が安定的に得られる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 被めっき体はカチオン交換膜により、陽極スライムとは遮断されるので、めっきにピット、ざらつき、凹凸などの無い皮膜が得られる。
改善効果2 極めて高品質のめっき皮膜が得られるので、プリント基板、半導体などの精密部品のめっきに最適な方法となる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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