低級アルケン

開放特許情報番号
L2003003325
開放特許情報登録日
2003/3/28
最新更新日
2015/9/2

基本情報

出願番号 特願2001-202750
出願日 2001/7/3
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2003-012570
公開日 2003/1/15
登録番号 特許第3918048号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 低級アルケンの製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 低級アルケン
目的 触媒を用いて高い反応速度で低級アルケンを効率よく製造する。
効果 高い反応速度で低級アルケンを効率よく製造できる。
技術概要
 
低級アルカンを触媒の存在下で脱水素させて低級アルケンを製造する方法において、第一に、触媒担体としてZSM−5ゼオライトを用いる。第二に、第一の触媒が周期律表第Va、VIa、VIII及びIIIa(ホウ素、アルミニウムを除く)族の少なくとも一種の金属酸化物を含む。第三に、第一、第二の金属酸化物はクロム酸化物、バナジウム酸化物又はガリウム酸化物である。第四に、触媒は第一〜第三の一種の金属酸化物とアルカリ金属を含む。第五に、第一〜第四において、脱水素を二酸化炭素含有ガスの存在下で行う。第六に、第一〜第五において、低級アルカンはエタンであり、低級アルケンはエチレンである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 触媒の触媒活性保持率が安定している。
改善効果2 反応後の分解炭素質の堆積が極めて小さい。
改善効果3 高い反応速度で効率的に低級アルケンを製造できる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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