シルセスキオキサン系ポリマー成形体及びその製造方法

開放特許情報番号
L2003003073
開放特許情報登録日
2003/3/28
最新更新日
2015/9/1

基本情報

出願番号 特願2001-091159
出願日 2001/3/27
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2002-284999
公開日 2002/10/3
登録番号 特許第3757264号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 シルセスキオキサン系ポリマー成形体及びその製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 シロキサン結合を含む耐熱性の含ケイ素有機ポリマーの成形体
目的 耐熱性を有し、良好な絶縁性及び機械的強度を有するヒドロシリル化重合体を用いた不溶不融のシルセスキオキサン系ポリマー成形体の提供及びその成形体の簡易な製造方法の提供。
効果 絶縁性、耐熱性、難燃性が高く溶媒可溶のシルセスキオキサン系ポリマーから、簡易な方法で不溶不融の新規なシルセスキオキサン系ポリマー成形体を容易に得ることができる。この技術のシルセスキオキサン系ポリマー成形体は、各種の絶縁成形材料、耐熱成形材料等として広範囲の分野で利用することができる。
技術概要
 
この技術では、ヒドリドシルセスキオキサン類とジビニルシロキサン類をヒドロシリル化重合させて得られるシルセスキオキサン構造を有する含ケイ素ポリマーが、ある一定の条件下で加熱すると容易に硬化して良好な成形体が得られる。すなわち、一般式(1)(HSiO↓(3/2))↓n(式中、nは4〜1000の整数である。)で表されるヒドリドシルセスキオキサン類又はそれらの混合物と、一般式(2)CH↓2=CH−SiR↓2−O−(SiR↓2−O)↓q−(SiR’↓2−O)↓q’−SiR↓2−CH=CH↓2(式中、R及びR’は、それぞれ置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を示し、q及びq’は、それぞれ0又は正の整数である。)で表されるジビニルシロキサン類又はそれらの混合物とのヒドロシリル化重合体を、軟化点或いは融点以上の温度で加熱硬化させて得られるシルセスキオキサン系ポリマー成形体が提供される。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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