特定の金属種に特定の配位子を配位させた金属錯体を含む溶液組成物、希土類超電導膜製造用溶液組成物、特定金属錯体の非結晶固形物、特定の金属種に特定の配位子を配位させた金属錯体を含む溶液の製造方法、希土類超電導膜製造用溶液の製造方法、及び超電導薄膜の形成方法

開放特許情報番号
L2003003071
開放特許情報登録日
2003/3/28
最新更新日
2015/9/1

基本情報

出願番号 特願2001-090925
出願日 2001/3/27
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2002-284525
公開日 2002/10/3
登録番号 特許第3548801号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 特定の金属種に特定の配位子を配位させた金属錯体を含む溶液組成物、希土類超電導膜製造用溶液組成物、特定金属錯体の非結晶固形物、特定の金属種に特定の配位子を配位させた金属錯体を含む溶液の製造方法、希土類超電導膜製造用溶液の製造方法、及び超電導薄膜の形成方法。
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 特定の金属種に特定の配位子を配位させた金属錯体を含む溶液組成物・希土類超電導膜製造用溶液組成物・特定金属錯体の非結晶固形物・特定の金属種に特定の配位子を配位させた金属錯体溶液の製造方法・希土類超電導膜製造用溶液の製造方法・及び超電導薄膜の製造方法
目的 希土類元素、バリウム、及び銅を含有する金属種の金属イオンに対して、トリフロロ酢酸基又はペンタフロロプロピオン酸基から選ばれる基、ピリジン基、並びにアセチルアセトナート基からなる3種類の配位子が配位している金属錯体からなる溶液組成物、超電導体製造用溶液組成物、金属錯体の非結晶固形物、金属錯体を含む溶液の製造方法及び希土類超電導膜製造用溶液の製造方法の提供。
効果 トリフロロ酢酸塩溶液を用いた塗布熱分解法とは相違して、耐酸性に乏しいニッケルや銀などの金属線材基板、酸化マグネシウムなどのセラミックス基板、さらには酸化マグネシウム、酸化ニッケルなどのセラミックス中間層を形成した金属線材基板上に、基板の腐食を伴うことなく良好な超電導膜を形成できる。また、膜厚の制御と厚膜形成が容易である。又、微結晶の偏析を抑制して、超電導性膜を形成するための膜の形成がより均一に行うことができ、平滑でかつ均一な超電導膜を形成できる。
技術概要
 
この技術では、希土類元素、バリウム及び銅を含有する金属種の金属イオン、さらに具体的にはこれら金属種を含む希土類超電導体を構成する金属種の金属イオンに対して、トリフロロ酢酸基又はペンタフロロプロピオン酸基から選ばれる基、ピリジン基、並びにアセチルアセトナート基からなる3種類の配位子を配位させた金属錯体を含む均一溶液を得ることができる。そして、この金属錯体の均一溶液であるから、基板の上に塗布するする際には均一な塗布が可能となり、均一な塗布膜を形成することができる。また、基板上に塗布された金属錯体の均一溶液を加熱処理する際に、金属錯体はトリフロロ酢酸基又はペンタフロロプロピオン酸基から選ばれる基、アセチルアセトナート基、並びにピリジン基からなる3種類の配位子を有するために大きな立体障害効果を有するものであることにより、また塗布液を加熱処理して得られる超電導膜は、偏析が抑制され、平滑かつ均一な状態である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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