出願番号 |
特願2001-053594 |
出願日 |
2001/2/28 |
出願人 |
独立行政法人産業技術総合研究所 |
公開番号 |
特開2002-255949 |
公開日 |
2002/9/11 |
登録番号 |
特許第3747239号 |
特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
発明の名称 |
プロピレンオキシドの製造方法 |
技術分野 |
有機材料 |
機能 |
材料・素材の製造 |
適用製品 |
プロピレンオキシド製造用ハイシリカゼオライト触媒、プロピレンから、気相酸素存在下での酸化反応によりプロピレンオキシドを製造する方法 |
目的 |
酵素または過酸化物などを酸化剤として用いて、ハイシリカゼオライト系触媒存在下、プロピレンを原料として、プロピレンオキシドを高められた収率で製造する方法の提供。 |
効果 |
ハイシリカゼオライト系の新規な触媒系を用いることにより、原料プロピレンと気相酸素または過酸化物とを反応させ、プロピレンオキシドを従来法より高められた収率と選択率で製造することができる。 |
技術概要 |
この技術では、ハイシリカゼオライト(HSZ)(Si/Al↓2比=1900)2gを取り400℃で3時間脱気した後、チタンテトライソプロポキシド0.889g(Ti含有量7.5wt%)を含むイソプロパノール溶液(30ml)中に投入し含浸させ、50℃で1時間攪拌後、水25gを添加しTiを沈殿させる。100℃で一晩乾燥後、700℃で3時間焼成しハイシリカゼオライト触媒として7.5wt%Ti/HSZ触媒(7.5Ti/HSZ)を得る。こうして得た触媒1gを希釈剤としての石英砂2gとともに石英反応管に入れ、窒素、プロピレン、酸素の混合ガス(体積比(窒素/プロピレン/酸素=60/25/15))に替え、25ml/minの流量(W/F=0.67hr.g.L−1)で反応管に導入して300℃で反応を行う。同温度で30分反応後の生成物をガスクロマトグラフにより分析したところ、プロピレン転化率78.2%、選択率26.1%にてプロピレンオキシド(PO)が生成される。原料プロピレンに対するPOの絶対収率は20.4%である。 |
実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【否】
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特許権実施許諾 |
【可】
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