高表面積を有するセラミックス多孔質膜の製造方法

開放特許情報番号
L2003002925
開放特許情報登録日
2003/3/28
最新更新日
2015/8/31

基本情報

出願番号 特願2000-401651
出願日 2000/12/28
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2002-201084
公開日 2002/7/16
登録番号 特許第3579713号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 高表面積を有するセラミックス多孔質膜の製造方法
技術分野 無機材料
機能 表面処理
適用製品 光触媒、色素増感太陽電池、センサー材料
目的 膜内部に多数の細孔を有し、さらに膜厚が厚いことの相乗効果により高い表面積を有し、触媒や触媒担体、吸着材料、脱臭・消臭材料、徐放性材料、センサーなどとして優れた特性を有するセラミックス多孔質膜及びその簡便で経済的な製造法の提供。
効果 ポリエチレングリコールの含有量を調整することにより、酸化チタン膜等のセラミックス膜の膜厚を1回のディップコーティング操作で、0.15〜0.77μm、及び膜厚1μmあたりのラフネスファクターを69〜170の範囲で制御できる。
技術概要
 
この技術は、酸化チタンや酸化アルミニウム等のセラミックスを基板上に多孔質かつ膜厚を厚く成膜することで、ラフネスファクター(基板の面積に対する膜内部の実表面積比)を著しく高くすることのできるセラミックス多孔質膜材料の製造方法である。この技術では、内部に多数の細孔を有し、1回のディップコーティング操作により膜厚が0.15〜0.77μm、かつ膜厚1μmあたりのラフネスファクターが69〜170の高表面積を有するセラミックス多孔質膜を製造するに当り、まず、金属アルコキシドをポリエチレングリコールを含む水に滴下するか、金属アルコキシドを水に滴下し、沈殿が得られた後にポリエチレングリコールを添加し、加水分解して得られる沈殿を酸又はアルカリを添加して加熱することにより、均一なゾル溶液を調製し、次いでゾル溶液を基板上にディップコーティングし、乾燥し、加熱処理して膜を作製している。また、セラミックス多孔質膜の製造に当り、好ましくはディップコーティング・加熱処理の操作を繰り返して膜厚を増加させるように処理する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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