熱拡散率と界面熱抵抗の測定方法

開放特許情報番号
L2003002845
開放特許情報登録日
2003/3/28
最新更新日
2015/8/28

基本情報

出願番号 特願2000-317107
出願日 2000/10/17
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2002-122559
公開日 2002/4/26
登録番号 特許第3430258号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 熱拡散率と界面熱抵抗の測定方法
技術分野 電気・電子
機能 検査・検出
適用製品 半導体素子、光ディスク型データ記録媒体、非金属物質、3層薄膜
目的 測定する物質が非金属物質であっても正確に熱拡散率の測定を行うことができると共に、3層薄膜内の熱拡散率の正確な測定の実現。
効果 測定する物質がが非金属物質であっても例えばその両側に金属物質の層を形成することにより、ピコ秒サーモリフレクタンス法によって熱特性値と界面熱抵抗を同時に測定を行うことができるようになる。
技術概要
この技術では、熱物性値が未知の非金属薄膜に対して図中上面に位置する第1金属薄膜と、その反対側に位置する第2金属薄膜とにより挟む3層構造の試料を作成する。各金属薄膜は熱物性値が既知の同種の物質であり、かつ同じ厚さに形成したものが用いられる。このような3層物質を透明基板上に配置する。このような構造の試料及び装置を実際に形成するに際しては、透明基板上に順にこのような材質、厚さの膜を成膜することにより形成することができる。そして、裏面加熱・表面測温ピコ秒サーモリフレクタンス法により内部の熱拡散率を測定可能となる。即ち、図中下方から透明基板を通してピコ秒光パルスにより第2金属薄膜の下面を加熱する。照射された光パルスは第2金属薄膜において1ピコ秒以内に熱に変換され、界面/非金属薄膜層/界面を拡散して反対側の第1金属薄膜に達する。この第2金属薄膜の表面の温度変化をサーモリフレクタンス法により測定することによって3層薄膜を貫通する熱の拡散を測定することができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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