ケイ素で縮環されたTPDポリマー

開放特許情報番号
L2003002766
開放特許情報登録日
2003/3/28
最新更新日
2015/8/28

基本情報

出願番号 特願2000-258886
出願日 2000/8/29
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2002-069161
公開日 2002/3/8
登録番号 特許第3413492号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ケイ素で縮環されたTPDポリマー
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 有機薄膜発光素子、有機薄膜エレクトロクロミック素子
目的 発光素子やエレクトロクロミック素子用材料として有用な製膜性のよい重合体、その製造方法及びそのモノマー化合物の提供。
効果 成形加工の面で非常に簡単な方法で薄膜化ができるような素材の提供が可能であり、さらに発光素子及びエレクトロクロミック素子の構成材料として有用な材料を提供することができる。
技術概要
 
この技術では、2.18gの2,3,4,5,6−ペンタメチルトリフェニルアミンを80mLの四塩化炭素に溶かした後1.6mLの臭素を加え、2時間撹拌し、溶媒を留去した後にシリカゲルのカラムで精製することによって3.71gのビス(2,4−ジブロモフェニル)(2,3,4,5,6−ペンタメチルフェニルアミン)を得る。続いて、氷浴中で316mg(0.5mmol)ビス(2,4−ジブロモフェニル)(2,3,4,5,6−ペンタメチルフェニルアミン)を5mLのエーテルに懸濁させた後に0.7mLのn−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6M)を加え、懸濁液が均一になったところでさらにジ−n−オクチルジクロロシランを0.17g(0.5mmol)加える。沈殿が生成した後に氷浴を外して12時間かくはんし、反応液を水を加えてエーテルで抽出した後にシリカゲルのカラムで精製することにより0.29g(0.40mmol)の2,8−ジブロモ−10,10−ジ−n−オクチル−5−(2,3,4,5,6−ペンタメチルフェニル)−5,10−ジヒドロフェナザシリンを単離する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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