アゾベンゼン誘導体化合物及びそれからなる自己組織化膜

開放特許情報番号
L2003002705
開放特許情報登録日
2003/3/28
最新更新日
2015/8/27

基本情報

出願番号 特願2000-203664
出願日 2000/7/5
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2002-020368
公開日 2002/1/23
登録番号 特許第3538633号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 アゾベンゼン誘導体化合物及びそれからなる自己組織化膜
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 アゾベンゼン誘導体化合物、自己組織化膜
目的 その機能を発現させる際に必要となる分子構造が変化できるための十分な空間が存在し、かつその空間が安定的に保持される構造を有する自己組織化膜の提供。
効果 この技術によれば、新規化合物であるアゾベンゼン誘導体化合物を得ることができる。この化合物から光に反応することができる構造を有する自己組織化膜を得ることができる。
技術概要
この技術は、アゾベンゼン基の側面(N=N結合にたいしオルトおよびメタ位)に置換基を導入したチオール誘導体およびジスルフィドを合成し、このアゾベンゼン基を有する硫黄化合物を製膜すると、アゾベンゼン基同士の会合を防ぐことができ、かつアゾベンゼンの側面に導入した置換基の大きさの分だけ、光異性化を起こす空間を生じさせることができ、またこの化合物はアゾベンゼン間の凝集力が弱いので安定性を高めることができることに基づく。式において、R1は、炭素数8〜1の直鎖、環状又は分岐鎖を有するアルキル基、フルオロアルキル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、エステル基、アルコキシル基、フェニル基、水素原子又はハロゲン原子を表し、nは18≧n≧2の範囲の整数を表し、R2〜R9のうち少なくとも1つ以上はアルキル基、又はフェニル基を表し、その他は水素原子を表し、R↓10はチオール、もしくはアルキルジスルフィドで表されるアゾベンゼン誘導体化合物とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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