芳香族ポリカルボシランの製造方法

開放特許情報番号
L2003002511
開放特許情報登録日
2003/3/20
最新更新日
2015/8/26

基本情報

出願番号 特願2000-070406
出願日 2000/3/14
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2001-261836
公開日 2001/9/26
登録番号 特許第3413486号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 芳香族ポリカルボシランの製造方法
技術分野 化学・薬品、有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 ジヒドロシラン類とジイン化合物との反応によるジビニルシラン部分構造(C=C−Si−C=C)および芳香環構造を主鎖に有するポリカルボシランの効率的製造方法
目的 ジビニルシラン部分構造(C=C−Si−C=C)および芳香環構造を主鎖に有する芳香族ポリカルボシランの効率的製造方法の提供。
効果 ジヒドロシラン類およびジイン化合物から、各種材料の製造に有用なジビニルシラン部分構造を有する芳香族ポリカルボシラン類を、効率よく安全に製造でき、その精製も容易である。
技術概要
 
この技術では、一般式R↑1R↑2SiH↓2(I)で表されるジヒドロシラン類を、一般式HC≡CR↑3C≡CH(II)で表されるジイン化合物と反応させて一般式(−SiR↑1R↑2−R↑4−R↑3−R↑5−)↓n(III)で表される芳香族ポリカルボシランの効率的製造方法が提供される。一般式(I)中のケイ素原子上の置換基R↑1およびR↑2は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、または1価の複素環基の中から選ばれる互いに同一または相異なる1価の基である。一般式(II)中のR↑3は、アリーレン基および2価の芳香族複素環基の中から選ばれる2価の芳香環基である。この反応は、−100℃以上、好ましくは−50〜250℃の反応温度で実施される。反応混合物からの目的生成物の分離精製は、一般に再沈殿またはクロマトグラフィー等の有機化学的に通常用いられる手段により、容易に達せられる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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