複数のアセチレン基を有するトリメチルシリルエチルスルフィド化合物及びその製造方法

開放特許情報番号
L2003002503
開放特許情報登録日
2003/3/20
最新更新日
2015/8/26

基本情報

出願番号 特願2000-069114
出願日 2000/3/13
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2001-253884
公開日 2001/9/18
登録番号 特許第3459953号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 複数のアセチレン基を有するトリメチルシリルエチルスルフィド化合物及びその製造方法
技術分野 化学・薬品、有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 複数のアセチレン基を有する新規なトリメチルシリルエチルスルフィド化合物およびその製造方法
目的 複数のアセチレン基を有する安定なチオール等価体とその製造方法の提供。
効果 この化合物は安定で、容易にトリメチルシリルエチル基を除去できることから、金表面上に複数のアセチレンを有するスルフィドの単分子膜を作製する際の原料として極めて有用である。この化合物を吸着させた金は、有機チオ基の不飽和結合部分が反応性を有し、非線形光学材料、光記録材料、光導波路材料等として利用することができる。
技術概要
 
この技術では、トリメチルシリルエチル基が複数のアセチレン基と直結しているチオールの保護基として働き、また、フッ素イオン等を用い温和な条件下で除去できる。すなわちこの技術は、式で表される複数のアセチレン基を有するトリメチルシリルエチルスルフィド化合物、式(1)〔R−(C≡C)↓x−S−CH↓2−CH↓2−Si(CH↓3)↓3〕(式中、Rは置換基を有していてもよいアリール基または飽和もしくは不飽和脂肪族基を示し、xは2以上の整数を示す。)および式(2)で表わされる有機金属化合物と式(3)で表されるトリメチルシリルエチルスルフェニルクロリドとを反応させて、(1)項記載のトリメチルシリルエチルスルフィド化合物を製造する。式(2)〔R−(C≡C)↓xM〕(式中、Rおよびxは前と同じ。Mはアルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子を示す。)式(3)〔C1−S−CH↓2−CH↓2−Si(CH↓3)3〕を提供する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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